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英特尔18A工艺的重磅消息近日引发热议，这不仅是芯片行业的重大突破，更是科技界的一大看点！英特尔官方宣布，18A工艺节点已进入流片准备阶段，预计今年上半年正式启动。这一工艺采用了BSPDN背面供电技术，结合Ribbo✅nFET环绕栅极技术，芯片密度和性能都将迎来质的飞跃。可以说，18A工艺的问世，标志着英特尔在芯片制造领域迈出了里程碑式的一步。
英特尔的18A工艺为何如此引人关注？首先，它首次将供电过程转移到晶圆背面，这一㊣创新大幅提升了芯片的性能和效率。其次，RibbonFET技术的应用使得✅晶体管的栅极结构更加优化，进一步提升了芯片的运算速度和能效比。这些技术的结合，使得18A工艺在性能上有望超越台积电等竞争对手的顶尖工艺，为英特尔代工服务（IFS）进入主流市场铺平道路。
据传，18A工艺的首次应用将搭载在英特尔即将推出的Panther Lake移动SoC和Clearwater Forest Xeon服务器CPU上，而下一代Celestial独立显卡也可能采用这一工艺。这意味着，18A工艺不仅在移动设备和服务器领域大有可为，甚至可能在显卡市场掀起新的波澜。
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